日本政府擬推出新補貼製度 旨在確保半導體生產所需工業用水

集微網消息，據日本廣播協會（NHK）消息，日本經產省已決定建立新制度，為向半導體工廠供應工業用水的設施建設提供補貼，補貼對象包括淨水廠和管道等。在日本政府推動發展晶片產業鏈、吸引企業建廠的背景下，上述行動旨在確保半導體生產所需的工業用水。

報導稱，隨著日本政府為了加強半導體供應鏈而推動生產基地的建設，日本各地建立和擴大半導體相關生產基地的擧措不斷湧現。但半導體在清洗等過程中使用大量的水，確保工業用水是一個問題。

其中，台積電計劃與索尼等在熊本縣共同建設的工廠目前計劃使用地下水。雖然台積電也在考慮建設第二家工廠，但當地居民擔心對地下水的影響，熊本縣正在考慮建設工業用水所需的設施。

因此，日本經產省制定了新的製度，為工業用水所需的淨水廠和水管等設施的建設提供補貼。此後其還將考慮具體製度，例如支持通過向民間企業委托管理來提高企業的管理效率。

據悉，日本政府上個月重新脩訂晶片策略，目標是在2030年前，讓國內製半導體銷售額增加兩倍至超過15萬億日元（1080億美元），此擧凸顯出晶片在日本經濟安全政策佔有核心地位。