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產業創新條例翻修 台版晶片法上路
立法院今(2023)年初通過《產業創新條例》第10條之2修正案,亦即俗稱「台版晶片法」;產創條例10之2子法預計將於今(7)日正式公告實施,明訂研發費用達60億元、研發密度(研發費用占營收淨額之比率)達6%,購置用於先進製程之設備支出達100億元為申請門檻,亦即符合上述條件才有資格申請投抵。
經濟部表示,如未符合前述適用條件的公司,仍可申請產創條例第10條研發投資抵減及第10條之1智慧機械投資抵減。
經濟部在今年5月1日預告「公司前瞻創新研究發展及先進製程設備支出適用投資抵減辦法」(外界稱為產創條例第10條之2子法)草案,明定支出適用範圍、申請程序與期限、審查機制及相關事項。該子法並於5月底預告期滿之後,經濟部7月中已函送財政部,進行確認細部文字工作。經濟部上周已收到財政部回函,預計今日於行政公報發布實施。
經濟部與財政部協商後,產創條例10之2子法明訂企業申請門檻為研發費用達60億元、研發密度達6%、購置用於先進製程的設備支出達100億元,且2023年有效稅率為12%,才能適用第10條之2的租稅減免。
有台版晶片法之稱的、產創條例第12條之2,將為半導體、電動車、5G等技術創新且居國際供應鏈關鍵地位公司,提供租稅優惠。其投資於前瞻創新研究發展之支出25%,得抵減當年度應納營利事業所得稅額;購置先進製程之全新機器或設備,支出金額5%得抵減當年度應納營利事業所得稅額,且該機器或設備支出不設金額上限。
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