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英特爾宣布 完成首台商用高數值孔徑EUV光刻機組裝

圖/英特爾提供
圖/英特爾提供

半導體巨人英特爾於18日宣布,在其俄勒岡州的研發中心,完成業界首台商用高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)光刻機的組裝。

半導體設備商艾司摩爾(ASML)於去年底在社群平台X貼出圖片,顯示開始將第一套高數值孔徑EUV系統的主要部分出貨給英特爾。如今英特爾宣布已完成組裝,展現領先競爭對手的用意明顯。

在4年發展5個製程節點計畫,預計最先進可達Intel 18A製程之後,英特爾規畫未來將在其Intel 14A製程正式導入利用高數值孔徑EUV。先前根據分析師預估,這套高數值孔徑EUV設備的價格約達2.5億歐元。

英特爾於日前透露,將在2027年前開發出14A製程,以及Intel 14A-E製程。

英特爾強調,高數值孔徑EUV設備TWINSCAN EXE:5000現正進行校準,這套設備結合該公司晶圓廠內的其他技術,有望能製印出比現有EUV設備小1.7倍的特徵。

同時,英特爾提到,後續該公司也已計畫購置下一代TWINSCAN EXE:5200B系統。

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