美國、荷蘭揮「組合拳」阻DUV機台銷中國 京批科技封鎖

美國和荷蘭相繼對中國半導體產業揮出「組合拳」，荷蘭6月30日祭新規定，要求荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）未來出口DUV深紫外光微影設備到中國，須事先申請許可，新規定9月1日生效。對此，中國外交部發言人毛寧30日回應稱，堅決反對美搞科技封鎖。

另據外媒報導，美國預計將更進一步阻止「特定中國廠商」獲更多荷蘭設備。半導體廠家表示，由於DUV機台過去兩年面臨晶片荒，各代工廠擴增產能瘋狂搶貨，缺貨迄今未獲紓解，預料此管制令一出，恐讓中國晶圓廠再擴大收購潮，但未來中國晶圓升級勢必遭遇阻力。

美國要求各國加入對中國科技管制行列已延燒多年，白宮早已要求艾司摩爾不可將用於7奈米以下先進製程的極紫外光（EUV）賣給中國，也希望把生產成熟製程的深紫外光（DUV）列入管制，尤其日前傳出中國中芯國際出給美國一家生產挖礦機廠商，驚見的7奈米晶片就是用DUV生產，美國白宮向荷蘭政府施壓始終未停。

荷蘭政府做出管制決定，應是已與艾司摩爾達成共識。換言之，艾司摩爾已趁著這段緩衝期充分滿足中國客戶未來幾年發展成熟製程所需的關鍵DUV機台，並將大量在今年交貨，才會點頭同意荷蘭政府做出管制決定。即使管制後，未來艾司摩爾設備出口中國也僅多一道申請程序，未必全數斬斷輸往中國的生意。

對此，荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾發布聲明表示，這些新的出口管制條例針對物件包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統，並非部分媒體報導的所有浸潤式DUV光刻系統。該聲明表示，管制措施對公司2023年度、甚至更長期財務展望沒有重大影響。

美日荷等國聯合對中國祭出關鍵半導體零組件出口管制措施，不少IC設計業者反映中國投片升級風險升高，須採取分散投片策略。

除晶片設計公司考慮分散代工來源，中國也會加速發展關鍵半導體設備自主化。包括北方華創微電子、盛美半導體設備、中微半導體設備、上海微電子等百家大廠，近幾年都獲得政府大力補助，具備生產曝光機的技術，只是精準度和品質仍難與艾司摩爾及日商比美，但長期中國仍會想辦法突圍。

針對美國及荷蘭對中國晶片製造商祭出新管制措施，進一步限制對中國廠商銷售晶片製造設備。中國外交部發言人毛寧30日回應稱，中方堅決反對美方泛化國家安全概念，濫用出口管制，將密切關注有關動向，堅決維護自身的合法權益。

毛寧指出，美方以各種藉口拉攏脅迫其他國家對華搞科技封鎖，以行政手段干預企業之間的正常經貿往來，嚴重破壞市場規則和國際經貿秩序，衝擊全球產供鏈的穩定，不符合任何一方的利益。

此外，外媒報導還稱，美國預計將更進一步利用其廣泛影響力，阻止包括中芯國際在內的「特定中國廠商」獲得更多荷蘭設備。