EUV
頭一遭 陸擬設EUV光阻劑標準
大陸國家標準委網站近日顯示，大陸首個EUV光阻劑標準《極紫外（EUV）光阻劑測試方法》作為擬立項標準。其將成陸首個EUV光阻劑標準，該標準制定不僅能夠填補大陸在該領域技術標準空白，同時通過建立統一的...
半導體業憂綠電供應執行力 盼政府確保供電充足穩定
台灣能源轉型面臨挑戰，淨零碳排是企業必要之路。台灣半導體產業協會（ＴＳＩＡ）理事長、台積電資深副總侯永清昨天表示，ＴＳＩＡ已針對電力議題向政府提出提出三大訴求，包括電力總量、綠電以及供電穩定性，綠電...
不是科幻世界是台積電！美廠內部影片曝光 內行認了「1處超好睡」
全球晶圓代工龍頭台積電（TSMC）9月釋出位於美國亞利桑那州廠的影片，從動工到開幕長達近10分鐘，連同Fab 21廠內部也一併曝光，其中被稱為「銀色高速公路」（Silver Highway）的自動化...
全球晶片競賽 三星挑戰台積電新利器：已購兩台ASML先進設備
根據韓媒Ked Global報導，三星電子將斥資1.1兆韓元（7.73億美元），向艾司摩爾（ASML）採購兩台最先進的極紫外光（EUV）微影設備，2026年中就會到貨，再次押注次世代半導體製造，力圖...
台積電台中1.4奈米廠「不採ASML最新設備」 網憂反增缺陷風險
台積電傳出將於今年底在台中動工興建1.4奈米生產線，預計2028年下半年實現量產，不過外媒報導指出，公司不打算採購艾司摩爾（ASML）最新高數值孔徑EUV曝光機，而是選擇沿用現有設備，透過多重曝光技...
韓媒：SK海力士兩年內將增購20台新機台 將EUV數量增加一倍
韓媒電子時報引述業界消息人士報導，SK海力士計劃在2027年前再添購約20台極紫外微影（EUV）設備。SK海力士目前已有20台EUV設備，包括用於研發的機台。每台EUV設備價格約在3,000億至5,...
科技戰拚技術突破 中芯國際傳測試陸首款國產DUV曝光機
中美在高科技競爭持續，英國《金融時報》引述2名知情人士透露，大陸晶片大廠中芯國際正在測試大陸首款國產先進晶片生產設備，目標是用於製造人工智慧處理器。上述2名知情人士稱，中芯國際正在測試由上海新創公司...
中國曝光機研發落後！網憂「核心被美掌握」：台灣只能任川普擺佈
高盛批評中國曝光機研發停留在65奈米，落後世界大廠20年，引發PTT熱議，有網友總結外媒報導要點，指曝光機（EUV/高數值孔徑EUV）攸關高階製程，中國受美歐零組件與出口管制牽制；他直言「最先進核心...
SK海力士創業界之先以ASML的High NA EUV設備量產
SK海力士發布新聞稿說，位於南韓利川的M16晶圓廠引進高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）微影設備的組裝，率業界之先正式導入量產。SK海力士引進艾司摩爾（ASML）的EXE:5200B機型...
EUV光刻材料取得突破 北京清華大學團隊開發新型光阻劑
北京清華大學宣布，該校化學系許華平教授團隊在EUV（極紫外光）光刻材料上取得重大突破，開發出一種基於聚碲氧烷（Polytelluoxane, PTeO）的新型光阻劑，為先進半導體製造關鍵材料提供新的...
ASML：Q2財報優於預期 但Q3客戶延後採購
台積電法說會前夕，半導體設備大廠艾司摩爾（ＡＳＭＬ）公布第二季財報，談及明年展望，執行長傅凱表示，「ＡＩ客戶基本面依然強勁，但總體經濟和地緣政治變數不斷升高，因此，我們雖持續為二○二六年成長做準備，...