陸國產曝光機跨大步 芯上微裝0.35微米設備獲訂單

大陸半導體微影設備（曝光機）廠商芯上微裝自主研發的0.35微米步進式曝光機AST6200，通過大陸化合物半導體龍頭客戶的技術驗證，並獲得相當規模的訂單。雖然並非在高端曝光機突破，但顯示大陸國產曝光機在化合物半導體領域具備替代進口的能力。

據悉，AST6200曝光機可廣泛應用於功率器件、射頻前端、光電子晶片及Micro LED新型顯示等製程場景，並搭載自主研發的全棧式軟體控制系統，從底層驅動到上層技術管理實現100%自主可控。

值得注意的是，該設備專門針對碳化矽（SiC）、氮化鎵（GaN）、砷化鎵（GaAs）等化合物半導體場景定製，下游產品主要使用於新能源汽車、5G通信、光電子等高增長產業。獲得龍頭客戶的重複採購說明大陸國產設備已能切實滿足第三代半導體產線的剛需，為汽車晶片等關鍵領域的供應鏈安全提供新的大陸國產選項。

然而，AST6200曝光機屬於0.35微米的成熟製程設備，與外界關注的3奈米／5奈米先進製程存在代差，因此並非在曝光機領域有突破，主要是填補大陸國產化合物半導體製造裝備的空白，真正的「卡脖子」環節仍在先進製程曝光機領域。

公開資料顯示，芯上微裝成立於2025年2月，是大陸曝光機大廠上海微電子分拆出來的獨立公司，擬募資獨立IPO。目前其主力產品為晶圓級先進封裝曝光機、鐳射退火設備和前道晶圓缺陷檢測（自動光學檢測）設備。