陸企DUV微影設備投產

科技媒體The Information引述兩位知情人士報導，一家由中國大陸政府支持的企業，已啟動生產深紫外光（DUV）微影設備，若成功大量生產，可能影響微影設備大廠艾司摩爾（ASML）的產品需求，拖累ASML盤中挫跌6%。消息人士透露，這家總部位於上海的企業，已從其他陸企延攬深紫外光人才，包括一家政府支持的晶片設備製造新創上海宇量昇科技。

該報導指出，若這家企業成功大量生產DUV微影設備，可能取代艾司摩爾的設備。該公司預計今年生產大約五台DUV微影設備，將交付給中芯國際、華虹宏力、長鑫存儲等大陸晶片製造商；預料明年大約生產20台。

上海宇量昇科技、中芯國際、華虹宏力、長鑫存儲均未回應The Information的置評請求。曝光機對半導體先進製程相當重要，原理是「光學微影」技術，簡單來說就是「在晶圓上刻出精細的電路」，這是量產晶片時最重要的步驟。

DUV深紫外光微影系統，波長193nm，是當前半導體產業用於量產晶片的主力。就ASML來說，提供浸潤式和乾式微影解決方案，幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。

EUV曝光機採用的光源是「極紫外光」，波長13.5nm，可以刻出更細緻的電路圖。