ASML：陸自研曝光機加速

荷蘭曝光機巨頭艾司摩爾（ASML）執行長福克（Christophe Fouquet）警告稱，收緊曝光機對大陸市場的出口管制，反而將加速大陸自主研發替代設備的步伐。他形容，這是「存亡問題」。

福克日前參加在比利時安特衛普舉行的科技活動並接受路透採訪，他呼籲針對晶片製造設備銷往中國大陸，制定更為一致的規則。

美國國會4月提出「硬體技術多邊協調管制法案」（MATCH法案），要求荷蘭和日本等盟友遵守美國出口管制措施，防止大陸獲取先進晶片製造設備。這項法案在現行極紫外光（EUV）機對大陸全面禁售的基礎上，將浸潤式深紫外光（DUV）機等設備也納入全面限制。

福克說，艾司摩爾目前向大陸出售的DUV設備，本身就是基於2015年的技術，為八代之前的晶片技術；如果進一步收緊限制，只會加速中國自主研發替代設備的步伐。

他比喻說，「如果我將你放到沙漠裡，告訴你今後再也沒有食物來源了，你需要多久才開墾出自己的菜園？這是存亡的問題。」

路透此前報導，這項法案是在美國最大記憶體晶片製造商美光科技推動下提出，針對的對象為大陸長鑫存儲、長江存儲及中芯國際旗下工廠，以及遍及大陸全境的關鍵技術。荷蘭政府對法案予以反對。