技術突破 陸成功自製DUV曝光機

中國大陸工業和信息化部（工信部）近日公布一項通知顯示，大陸已取得技術突破，研發出深紫外光曝光機（ＤＵＶ），可生產八奈米及以下晶片，目前正在推廣應用。

中美近年掀起科技戰，美國積極防止大陸取得先進晶片製造設備，但圍堵成效未見討論，有消息顯示大陸已在相關技術取得重要突破，引起科技圈關注。

大陸工信部官網九日公布「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（二○二四年版）」通知，下發地方要求加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同。工信部稱，重大技術裝備是國之重器，事關綜合國力和國家安全。「首台（套）重大技術裝備」是指國內實現重大技術突破、擁有智慧財產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品，包括整機設備、核心系統和關鍵零組件等。

未提及製造良率

這份目錄顯示，在積體電路生產裝備，其中一項是「氟化氬光刻機」（ＤＵＶ曝光機），核心技術指標為：「晶圓直徑三○○公釐，照明波長二四八奈米，分辨率小於等於六十五奈米，套刻小於等於八奈米」。這也代表，這台大陸國產ＤＵＶ曝光機可生產八奈米及以下晶片。至於國產ＤＵＶ曝光機的（製造）良率則未有提及。

大陸科技媒體「科學科技說」轉發上述內容稱，大陸自己的ＤＵＶ曝光機終於來了，雖與晶片製造設備龍頭艾司摩爾（ＡＳＭＬ）曝光機存在代差，至少已填補空白，可控可用，期待之後能研發出更先進的極紫外光曝光機（ＥＵＶ）。

陸獲策略主動權

報導指出，這次突破主要集中在廿八奈米節點，這一節點在半導體製造上具有舉足輕重地位。這項突破的意義不僅在於技術層面的進步，更在於它為大陸帶來策略上的主動權。這意味著在未來面對外在挑戰時，大陸將能夠更從容地應對並保持自身的獨立性和自主性。

美國本月初才收緊製造先進半導體設備所需機器的出口管制，荷蘭政府隔天跟進，擴大限制半導體製造設備出口。路透報導，ＡＳＭＬ的1970i和1980i深紫外光曝光機（ＤＵＶ）輸出大陸會受到影響，兩款機型大約是ＡＳＭＬ所屬ＤＵＶ產品線的中階位置。有分析指，大陸若實現國產八奈米及以下製程ＤＵＶ，未來絕大多數晶片製造將不用受制於ＡＳＭＬ。

僅落後台積三年

此外，日經中文網上月底報導，日本半導體調查企業TechanaLye社長清水洋治表示，儘管良率上仍存有差異，但是大陸晶片的技術實力，目前僅落後台積電三年的水準。他是在比較台積電二○二一年量產的五奈米「KIRIN 9000」及二○二四年中芯國際量產的七奈米「KIRIN 9010」後作出這項結論。