涉竊取技術 SK海力士陸籍員工跳槽華為前印3000張資料

南韓半導體大廠SK海力士的前中國大陸籍員工,疑涉嫌竊取機密技術。(路透)
南韓半導體大廠SK海力士的前中國大陸籍員工,疑涉嫌竊取機密技術。(路透)

南韓半導體大廠SK海力士日前出現半導體技術外流華為疑雲。一名在SK海力士工作的中國籍職員,因涉嫌將降低半導體不良率的核心技術洩露給華為而被捕,目前正在接受審判。

據《朝鮮日報》報導,京畿南部警察廳產業技術安保調查隊稱,一名中國籍30多歲女性涉嫌違反《防止產業技術外流及保護產業技術法》,於4月底被捕並移送檢方。

報導指出,該名女子於2013年開始在SK海力士的半導體設計缺陷分析的部門工作。2020年至2022年期間,她擔任負責中國大陸當地法人企業間交易客戶諮詢的組長級職務。她於2022年6月回到中國大陸,獲得高額年薪合約,跳槽到大陸手機大廠華為。

該名女子在離職前影印了3000多張A4紙的資料,內容涉及在半導體製造過程中降低不良率的核心技術。

SK海力士出於資訊安全的原因,禁止員工使用USB等儲存設備。與此同時,也會詳細記錄影印內容、影印者和用途等,而該名女子所影印的文件沒有標明用途。

南韓警方在接到SK海力士報警後展開調查,並於今年4月在機場逮捕入境韓國的該名女子。警方認為,她將影印的文件帶離公司,發給外部人士。但該名女子否認,稱自己沒有洩露技術的意圖。

該名女子目前被提起訴訟,正在水原地方法院驪州分院接受審判。

此前,華為的最新高階手機Pura 60 Pro被發現使用SK海力士的LPDDR5記憶體晶片和NAND快閃記憶體,SK海力士回應,自美國對陸實施限制措施以來,已沒有和華為有業務往來。彭博猜測,華為很可能利用早在2020年美國制裁前就累積的庫存。

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