汎銓3月營收達2.24億元締新猷 Q1營收改寫歷年同期新高

汎銓MSS HG平台Logo設計,結合晶圓金屬質感呈現HG字樣,並以觀測矽光子漏光時,實際捕促到的紅偏粉光點的光學影像,展現其高精度光損定位與檢測技術核心。圖/汎銓提供
汎銓MSS HG平台Logo設計,結合晶圓金屬質感呈現HG字樣,並以觀測矽光子漏光時,實際捕促到的紅偏粉光點的光學影像,展現其高精度光損定位與檢測技術核心。圖/汎銓提供

AI晶片研發分析平台-汎銓( 6830)於今日公布2026年3月合併營收達2.24億元,月增47.1%、年增22.88%,創歷史單月新高;累計2026年第一季合併營收達5.79億元,年增24.54%,刷新歷年同期新高記錄。汎銓受惠於近年積極佈建的海外營運據點委案收入貢獻逐步放大,帶動旗下材料分析(MA)、矽光子/AI晶片檢測分析業務引擎全面熱轉,是推升汎銓3月及第一季合併營收繳出亮麗成績關鍵。

看好全球AI應用全面擴張,美系AI晶片大廠對於晶片分析需求持續放量,汎銓已逐步擴大專區合作模式,採客戶進駐廠內的深度合作機制,不僅提升技術整合效率,也進一步強化客戶黏著度與訂單能見度,透過與國際一線客戶建立長期合作關係,有助於公司在AI晶片分析領域持續擴大市占與服務深度。

不僅如此,汎銓第二成長曲線已正式啟動,隨著AI高速運算對資料傳輸速度與能效要求大幅提升,矽光子技術成為產業核心戰場。汎銓已正式成立矽光子工程處,並完成3台自主研發的MSS HG矽光子分析設備建置,其核心「光損偵測裝置」技術已取得台灣、日本與美國發明專利,未來除持續深化矽光子檢測分析服務外,也將積極推動設備產品化進程,逐步切入矽光子設備市場。

汎銓旗下「MSS HG」矽光子測試平台主要聚焦三大核心應用方向,包括第一,協助客戶進行光學失效定位能力;第二,支援客戶少量多樣、規格持續變動的工程實驗與研發測試;第三,發展為導入客戶場域的in-house研發/分析設備。

而相較於以大量產測為核心的傳統設備,MSS HG強調的是「光、機、電、像」的四位一體整合與工程彈性,透過公司自製的Prober探針載台,提供穩定、精密且具備高度客製化延伸的機構基礎,並結合光學量測模組與影像判讀能力,使得MSS HG不僅是「量得到」數據,更能協助客戶「看得見」缺陷、「找得到」病灶,並且「分析得下去」。此一布局象徵著汎銓已由過去單一服務型公司,正式轉型為「服務+設備」雙軌並行的營運模式,擴大整體市場打擊面與長期成長潛力。

觀察全球半導體產業持續朝向AI、高速運算與先進製程發展,對材料分析、失效分析及光學檢測需求將持續提升,汎銓將持續深化技術研發與服務能力,並透過全球化據點布局優勢,貼近客戶研發需求。目前汎銓已於台灣、美國矽谷、日本東京灣及大陸等四大半導體重鎮建立12個營運據點,有助於強化即時服務能力與提升國際競爭力。

展望未來營運,汎銓持審慎樂觀看法。看好在「埃米世代製程材料分析」、「AI客戶專區深化合作」、「矽光子量測服務與設備銷售雙軌發展」,以及「全球四大半導體產業區域據點布局」等四大成長動能驅動下,挹注未來營運動能持續放大可期。隨著海外營運據點分析產能逐步釋出、AI與矽光子相關需求持續升溫,汎銓營運可望自今年起進入長期成長軌道,朝向「年年成長」甚至「年年豐收」的營運目標穩步邁進。

營收 晶片

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