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TRUMPF:先進封裝將是未來半導體成長最快的領域

TRUMPF接受亞洲媒體聯訪表示,先進封裝將是未來半導體成長最快的領域, 雷射、電漿及光學三大技術並進。圖為TRUMPF的研發和製造中心其中一棟大樓。記者簡永祥/攝影
TRUMPF接受亞洲媒體聯訪表示,先進封裝將是未來半導體成長最快的領域, 雷射、電漿及光學三大技術並進。圖為TRUMPF的研發和製造中心其中一棟大樓。記者簡永祥/攝影

AI推升先進封裝需求快速升溫,全球EUV雷射設備大廠TRUMPF(創浦)也全面加速布局。公司首度透露,目前全球已有約20至30項先進封裝專案同步開發,涵蓋電漿(Plasma)、雷射(Laser)、玻璃基板(Glass Substrate)、Interposer及新材料等技術,並將先進封裝定位為目前公司創新最活躍、也是未來成長最快的技術領域之一。

TRUMPF高層表示,目前整個先進封裝市場仍處於快速演進階段,市場尚未形成統一技術標準。例如玻璃基板材料、玻璃厚度及封裝架構,短短半年內就已出現明顯變化,顯示產業仍持續尋找最佳解決方案。

他指出,目前產業更加重視散熱能力、材料可靠度及不同材料之間的互連方式,因此無論玻璃基板、Interposer或新型封裝架構,都還在快速發展中,「現在沒有人能說哪一種技術一定會勝出。」

TRUMPF因此採取平台化策略,不押注單一路線,而是同步發展完整技術能力,包括超短脈衝雷射(Ultra Short Pulse Laser)、高脈衝電漿產生器(High Pulse Plasma Generator)及各式雷射加工系統,希望滿足不同封裝技術需求。

其中,新一代高脈衝電漿技術,可提升不同金屬之間的互連品質,並提供更高製程彈性;超短脈衝雷射則可在幾乎無熱影響下完成材料加工,適合玻璃基板微孔(Micro Via)等高精密製程。

TRUMPF透露,目前正與全球系統設備商及半導體客戶共同開發相關平台,也同步與日本、台灣及南韓客戶合作,希望建立未來新一代封裝標準。除了企業合作之外,公司也與東京大學等研究機構共同投入下一代封裝及光學元件研究。

TRUMPF認為,目前包括面板級扇型封裝 (Panel-Level Packaging,FOPLP)、共同光學封裝(Co-Packaged Optics,CPO)、玻璃基板及各式新型矽中介層(Interposer)仍沒有明確勝負,公司將持續依據客戶需求共同開發,而非預先押注特定技術路線。

在AI持續推升高效能晶片需求下,TRUMPF預期,先進封裝將成為未來數年半導體設備市場最重要的新成長動能之一,公司也將持續投入雷射、電漿及光學技術,深化與台積電、ASML及亞洲主要客戶合作,搶攻下一世代封裝商機。

TRUMPF接受亞洲媒體聯訪表示,先進封裝將是未來半導體成長最快的領域, 雷射、電漿及光學三大技術並進。圖為樹立在TRUMPF整個研發和製造中心的標竿。記者簡永祥/攝影
TRUMPF接受亞洲媒體聯訪表示,先進封裝將是未來半導體成長最快的領域, 雷射、電漿及光學三大技術並進。圖為樹立在TRUMPF整個研發和製造中心的標竿。記者簡永祥/攝影

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