艾司摩爾三度上修展望 台積法說前釋AI需求強勁訊息

台積電（2330）今（16）日將舉行法說會，重要夥伴全球晶片微影技術龍頭艾司摩爾 （ASML）昨日財報搶先報喜，並且第三度上修全年營運展望，強調AI投資帶動客戶不斷加速擴產，帶旺半導體市況。

業界認為，艾司摩爾看好AI帶動半導體業投資動能，意味整體晶片需求強勁，晶片製造商必須增加添購艾司摩爾的設備來擴產，這也透露台積電接單暢旺，將是這波AI帶起的半導體熱潮下主要受惠廠商。

艾司摩爾結算，上季營收93億歐元，年增逾21%；毛利率54%，主要動能來自銷售與累積裝機管理收入高於預期；淨利29億歐元，年增逾27%。營收、毛利率均優於預期。

艾司摩爾並公布第3季財測，預估銷售淨額約110億歐元至120億歐元間，毛利率預估約55%至57%。

艾司摩爾執行長福克（Christophe Fouquet）指出，AI相關領域投資與技術持續發展，正帶動先進邏輯與儲存晶片需求成長，進一步強化半導體產業成長前景。客戶因應此趨勢，正不斷加速產能擴張計畫，並轉換成對艾司摩爾的承諾，增加未來市場需求的能見度。

艾司摩爾並三度上調2026年展望，最新預估全年總淨銷售額達430億歐元至450億歐元，毛利率介於54%至56%之間。

艾司摩爾最新年度財測較元月提出的第一版營收目標調高15.8%。業界看好，該公司三度調高全年展望，代表AI推動半導體成長趨勢無庸置疑。

艾司摩爾指出，今年低數值孔徑極紫外光（Low NA EUV）微影設備產能為65台。福克透露，今年上半年訂單量仍然非常強勁，基於此成長動能，預計明年將Low NA EUV微影設備產能增加30%，2028年再擴增30%。

艾司摩爾今年浸潤式DUV微影系統產能為130台，規劃2027年、2028年都要再各增加三成產能，並且持續大幅擴展設備升級產品組合服務。

艾司摩爾並宣布，攜手英特爾讓High NA EUV技術邁入新里程碑，英特爾晶圓代工已將ASML EXE High NA EUV技術用於量產部分代號為Panther Lake的處理器。

英特爾並將旗下18A製程特定層數於美國奧勒岡州完成High NA EUV製程雙重驗證，產品良率達到與 NXE平台相當水準，並開始出貨給客戶。雙方將持續深化合作，推進High NA EUV技術導入，並依據客戶需求，靈活應用於未來製程節點。