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台積電北美技術論壇揭A13製程 2029年量產、擴大 AI 與先進封裝布局

台積電(2330)於美國時間22日舉辦2026年北美技術論壇,正式揭示新一代A13製程技術,延續先前發表的A14平台再向前推進。(路透)
台積電(2330)於美國時間22日舉辦2026年北美技術論壇,正式揭示新一代A13製程技術,延續先前發表的A14平台再向前推進。(路透)

台積電(2330)於美國時間22日舉辦2026年北美技術論壇,正式揭示新一代A13製程技術,延續先前發表的A14平台再向前推進。台積電指出,A13較A14可再節省6%面積,且設計規則完全向後相容,有助客戶更快升級至最新奈米片電晶體技術,並透過設計與技術協同優化,進一步提升功耗效率與效能,預計將於2029年量產。

董事長魏哲家表示:「台積公司的客戶總是著眼於未來的創新,他們期待我們能持續提供可靠的新技術,例如A13,且這些精心建置的技術在客戶具前瞻性的新設計有需要時,能及時就緒並投入量產。台積公司的先進製程技術在密度、效能和功耗效率 方面引領業界,但我們仍持續尋找方法進行優化,以更好地支援客戶的未來產品,並作為客戶最可靠的技術夥伴,確保客戶得以成功。」

除A13外,台積電此次也同步強化先進邏輯藍圖,包括強化A14平台並預告導入背面供電技術的A12,預計同樣在2029年進入生產;2奈米家族則推出N2U,相較N2P可望達到速度提升3%至4%,或功耗降低8%至10%,邏輯密度提升2%至3%,預計2028年開始生產,作為支援AI、HPC與行動裝置的均衡方案。

在先進封裝與3D堆疊方面,台積電持續擴大3DFabric布局。公司目前已量產5.5倍光罩尺寸CoWoS,並規劃於2028年量產14倍光罩尺寸版本,可整合約10個大型運算晶粒與20個HBM堆疊,之後2029年還將推出更大尺寸CoWoS,並與預計同年問世的40倍光罩尺寸SoW-X系統級晶圓技術互補。另在3D晶片堆疊部分,A14對A14的SoIC技術預計2029年生產,其晶粒對晶粒I/O密度將達N2對N2 SoIC的1.8倍。

光電整合也是此次論壇亮點之一。台積電表示,COUPE on substrate共同封裝光學(CPO)方案預計於2026年量產,藉由將光子引擎直接整合至封裝內部,相較傳統可插拔方案可達2倍功耗效率、並降低90%延遲,率先導入200Gbps微環調變器,鎖定資料中心高速傳輸應用。

此外,台積電也擴大車用與特殊製程布局。車用奈米片製程N2A將是首款採用奈米片電晶體的汽車製程,相較N3A可在相同功耗下提升15%至20%速度,預計2028年完成AEC-Q100驗證;N3A則將於2026年投產,目前已有超過10個客戶產品規劃採用。特殊製程方面,台積電預計2026年推出N16HV,成為首家在FinFET世代引入高壓製程的晶圓代工廠,主要瞄準顯示驅動與近眼顯示器應用。

台積電 魏哲家 美國

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