ASML新EUV能讓晶片產量激增五成 帆宣供應關鍵元件成大贏家

半導體微影設備龍頭艾司摩爾（ASML）新技術大進擊，能在2030年前讓晶片產量較現階段增加五成。消息人士透露，台廠當中，帆宣（6196）在艾司摩爾這項新技術產品扮演要角，供應關鍵元件，隨著艾司摩爾新機台後市銷售看俏，帆宣將成為大贏家。

帆宣24日低調表示，不評論單一客戶。惟帆宣董事長透露，在建廠工程及設備訂單湧進的挹注下，帆宣在手訂單金額創新高，預估這一波榮景要讓帆宣忙到2028年。

帆宣是艾司摩爾極紫外光（EUV）機台次系統模組代工廠，更是艾司摩爾亞洲最大的供應商。帆宣在艾司摩爾的供應商代碼（vendor code）排名相當前面，可以稱得上是重量級的供應商。

高新明說，受惠於台灣先進封裝設備出貨放量，加上美國、日本、德國及新加坡的晶圓廠建廠工程陸續啟動，推升帆宣在手訂單創新高。因應客戶新建廠及擴產需求續旺，帆宣南科六廠去年下半年已加入設備生產陣容。

帆宣先前在法說會中揭露，跟著半導體先進製程和先進封裝的投資趨勢走，客戶端已經在洽談2028年的訂單。繼CoWoS設備放量之後，帆宣已掌握三家大廠的面板級先進封裝CoPoS的研發用初期訂單，等於是拿到入門票。

帆宣創立之初，雖然是從設備代理起家，經過38年的成長與發展，已發展成為一家全方位發展的半導體整合服務公司，不僅是晶圓大廠的重要廠務供應商，早在20年前便投入資源開始設備製造與研發，無論在半導體或是面板設備，都扮演舉足輕重角色。

帆宣除了是艾司摩爾極紫外光機台次系統模組代工廠，也是美商應用材料的設備代工供應鏈。

帆宣並與ToK東京應化、AIM Teah等公司布局先進封裝設備市場合作已十年，近二年搭上業務大幅成長的CoWoS順風車，帆宣負責承接業務、機台的製造、以及維修服務，2024年開始放量出貨。

艾司摩爾表示，已找到方法強化晶片製造設備的光源功率，能讓晶片產量到2030年最多增加五成。

艾司摩爾是透過將極紫外光（EUV）微影設備的光源功率，從現今的600瓦特提高至1,000瓦特，達成上述目標，這項新技術最大好處是光源功率愈強，每小時能生產更多晶片，有助降低每顆晶片的成本。

晶片印製方法類似相片，用EUV光線照在塗有光阻劑的矽晶圓上。EUV光源功率愈強，晶片曝光時間愈短。

艾司摩爾EUV機器NXE產線執行副總裁范谷（Teun Ｖan Gogh）表示，到2030年時，每台機器每小時應該能處理約330片矽晶圓，高於現在的220片，相當於產量提高五成。

為產生波長13.5奈米的光，艾司摩爾的機器會把一束融化錫滴射過一個腔體，由高功率的二氧化碳雷射加熱為電漿，在錫滴的超熱狀態物質型態下，溫度會高於太陽，並且射出極紫外光，並由德國蔡司供應的精準光學設備蒐集後，導入機器印製晶片。艾司摩爾的最新進步為提高錫滴數量一倍至每秒約10萬個，並用兩組更小的雷射脈衝形塑為電漿，而非目前的單一形塑脈衝。