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美版矽盾…英特爾扮要角 18A製程預計年底前供貨

川普政府有意打造「美版矽盾」,亞利桑那州成為最大據點,包括英特爾與台積電都在當地落腳。晶片示意圖。(路透)
川普政府有意打造「美版矽盾」,亞利桑那州成為最大據點,包括英特爾與台積電都在當地落腳。晶片示意圖。(路透)

川普政府有意打造「美版矽盾」,亞利桑那州成為最大據點,包括英特爾台積電(2330)都在當地落腳。在台積電亞利桑那新廠「趕進度」之際,根據英特爾先前規畫,最先進的18A製程也將在亞利桑那新廠生產,預計今年底前開始供貨,扮演「美版矽盾」的「美國隊長」關鍵角色。

英特爾與台積電在亞利桑那鳳凰城大都會區的晶圓廠區,位置一南一北,雙雄集結讓當地成為美國半導體製造重鎮。英特爾在當地設廠投資已邁入第46年,本來就是其在美國的晶片製造據點之一。近期該公司亞利桑那新廠F52將啟用,採18A製程生產,讓此處持續成為其最先進製程生產所在地。

值得注意的是,英特爾ITT(Intel Tech Tour)活動已是第四屆舉辦,今年首度移師亞利桑那,於美國時間29日登場。由於正值該公司亞利桑那新廠的18A製程將逐步到位之際,被解讀為頗具象徵性意義。

外界很難將英特爾與台積電的各代製程技術直接進行比較,不過依據英特爾官網資料,相較於Intel 3製程,其18A製程每瓦效能提升15%,晶片密度提升30%。

根據英特爾的計畫,首款採用其18A製程生產的產品為AI PC處理器Panther Lake,預計今年底前開始供貨。目前18A製程正如期進行,並將運用在該公司未來三代的處理器產品上。

英特爾18A製程採用RibbonFET環繞式閘極(GAA)電晶體架構,以改善密度與效能,並首度導入PowerVia背部供電技術,將粗間距金屬層與凸點移至晶片背面,這意味著Panther Lake將成為首顆利用PowerVia背部供電技術的產品。台積電則是預計在下一代A16技術,導入超級電軌(SPR)解決方案,將供電線路移到晶圓背面。

同時,英特爾另一款也會採用18A製程生產的產品則為伺服器處理器Clearwater Forest,規畫於2026年上半年推出,且將首度導入英特爾新一代Foveros Direct 3D先進封裝技術。

台積電方面,其亞利桑那州一廠已於去年第4季採用4奈米製程技術量產,該公司先前提到,二廠已完成建設,預計將採用3奈米製程技術,正努力加速量產進度數個季度。至於三廠也已開始動工,規畫將採用2奈米和A16製程技術,並將考慮加快生產進度。後續四廠也籌畫將採用2奈米及A16製程技術,而五廠與六廠則將採用更先進的技術,相關建設和量產計畫將依客戶需求而定。

台積電 英特爾
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