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ASML高規EUV出貨台積電
荷蘭晶片製造設備商艾司摩爾（ASML）表示，今年將首次出貨高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備給台積電（2330）。
Jefferies分析師預計，台積電將在2028年生產A14製程的晶片時，採用這項技術。
彭博資訊報導，艾司摩爾表示，該公司財務長達森（Roger Dassen）在近期的電話會議上告訴分析師，台積電和英特爾這兩家大客戶，將在今年底前取得High-NA EUV機台。
英特爾先前就已經訂購，並在去年12月底獲得第一台High-NA EUV設備，運到該公司位於奧勒岡州的工廠，並已完成組裝。
目前不確定台積電何時會收到。一名台積電代表說，正與供應商密切合作，拒絕進一步置評。
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