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半導體資本支出競賽開打 帶旺設備廠商機大開

2019-11-07 01:43經濟日報 記者簡永祥李珣瑛、國際中心╱綜合報導

三星、英特爾、台積電等半導體指標廠資本支出競賽火熱開打,多數用於購買最昂貴的極紫外光(EUV)和光罩、蝕刻、爐管、光阻、機械研磨與光學檢測等關鍵設備和材料,台廠中包括帆宣、家登、精測等,都將受惠此波大廠資本支出擴張商機。

業界指出,台積電、英特爾和三星為打造體積更小、效能更強的處理器,紛紛導入EUV技術,相關設備所費不貲,三家大廠資本支出直線攀升,艾司摩爾(ASML)等設備廠則成為受益者。

華爾街日報報導,晶圓代工大廠以最新製程挑戰物理極限,需要EUV微影技術當幫手。與常用光源相比,採用EUV的系統能讓晶片電路更微縮,但先進晶圓廠建造成本也跟著水漲船高,台積電兩年前宣布的新廠建造費用達200億美元。

台廠雖未直接生產EUV設備,但帆宣是ASML重要代工夥伴,預料可分一杯羹。此外,家登握有EUV晶圓光罩盒專利已打入台積供應鏈,法人看好,家登明年EUV光罩盒出貨將比今年增加二倍。

台積電晶圓廠家登

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