路透：中國國產EUV原型機測試中 目標2028生產先進晶片

路透報導，在深圳一間實驗室裡，中國科學家已打造出一個能夠生產尖端晶片的機器原型。北京當局更已設定目標，要在2028年前使用這台原型機生產出可用晶片。

消息人士透露，這台原型機今年初便已完成，目前正在測試中，而這台設備由荷蘭半導體巨頭艾司摩爾（ASML）的一個前工程師團隊打造，他們對該公司的極紫外光刻機（EUV）進行了逆向工程。

深圳的這台設備據傳已經可以運行，並能成功產生極紫外光，但尚未生產出可用的晶片。當局目標在2028年前使用這台原型機生產出可用晶片。不過，知情人士表示，更實際的時間表是2030年，而這仍比分析師預估的時間提前數年。

ASML執行長Christophe Fouquet今年4月時曾表示，中國要開發這類技術還需要「很多很多年」。但這台原型機的存在，意味著中國實現半導體自主的時間可能比外界預期的提早數年。

儘管如此，中國仍面臨重大的技術挑戰，尤其是在複製由西方供應商生產的高精度光學系統方面。

兩位知情人士稱，二手市場上能找到來自ASML舊機型的零組件，對中國打造出一台國產原型機有莫大助益。

報導指出，此計畫隸屬國家半導體戰略。根據官方媒體報導，這一戰略由習近平的親信、中共中央政治局常委兼中央科技委員會主任丁薛祥負責統籌。

知情人士並將這形容為中國版的「曼哈頓計畫」，也就是美國二戰時研發核武的行動。北京的目標自然是讓中國最終能夠使用完全本土製造的設備，生產先進晶片，將美國100%踢出供應鏈。

ASML在聲明中回應：「可以理解其他企業希望複製我們的技術，但要辦到這一點絕非易事。」從2018 年起，美國開始向荷蘭施壓，阻止ASML向中國出售EUV系統。到了2022年，拜登政府更擴大限制，實施廣泛的出口管制，旨在切斷中國獲取先進半導體技術的管道。ASML對路透表示，迄今從未將任何EUV系統出售給中國客戶。

今年9月時，英國金融時報也曾引述知情人士說法報導，中芯國際正在測試大陸首款國產先進晶片生產設備，目標是用於製造AI處理器。

當時消息人士稱，中芯國際正在測試由上海新創公司宇量昇生產的28奈米DUV曝光機，這款機器用的是浸沒式技術，類似ASML採用的技術，將利用該款DUV曝光機用於「多重圖案技術」（multi-patterning）生產7奈米晶片。不過，目前尚不清楚該曝光機是否何時能用於晶片的量產。