日本首家 晶片新創公司拿到EUV

日本政府大力扶植的晶片新創公司Rapidus，已成為首家收到荷蘭半導體晶片製造設備大廠艾司摩爾（ASML）極紫外光（EUV）設備的日本半導體公司，更進一步朝向生產日本最先進的2奈米晶片邁進。 由於設備尺寸龐大，將分為四階段組裝，預計本月底完成。完成後的設備重量為71公噸，高度為3.4公尺，就宛如一頭大鯨魚。

Rapidus社長小池淳義18日在新千歲機場舉行的紀念典禮上表示：「我們將從北海道和從日本傳遞最尖端的半導體到全世界。」

ASML是全球最大EUV設備供應商，其每台設備成本約1.8億美元以上。這些設備需要高超的操作技術，目前只有少數晶片製造商已採用，包括台積電、三星電子和英特爾。去年全球出貨量只有42台。小池上個月邀請ASML前技術長范登布林克（Martin van den Brink）參觀Rapidus的無塵室和工廠其他部分，促成了這次組裝。范登布林克在開發EUV技術上扮演要角。

Rapidus正與IBM合作開發2奈米製程技術晶片，目標在2025年春季完成試作品，並於2027年量產。全球最大晶片代工商台積電則計劃在2025年量產2奈米晶片。

Rapidus的下一步將是累積經驗知識。該公司已派遣約150名工程師到IBM，學習如何管理生產線。

另一方面，美國拜登政府19日和南韓晶片大廠SK海力士敲定協議，將提供該公司最高4.58億美元的補助金和5億美元的貸款，支援其在印第安納州興建一座先進晶片封裝廠，以打造美國國內的半導體供應鏈。

這項最終協議金額比當初8月宣布的略高一點，代表SK海力士的計畫有達到談判指標，可開始取得資金。美國商務部表示，這項計畫將創造1,000個就業機會，並填補美國半導體供應鏈的一個關鍵缺口。