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價值3.8億美元的晶片製造神器 艾司摩爾公開展示新一代微影設備

艾司摩爾(ASML)價值3.8億美元的High-NA EUV設備。艾司摩爾提供
艾司摩爾(ASML)價值3.8億美元的High-NA EUV設備。艾司摩爾提供

晶片製造設備商艾司摩爾(ASML)周五(10日)向媒體展示新一代極紫外光微影設備(EUV):大小約一輛雙層巴士、重量約兩架空巴A320飛機、價值高達3.5億歐元(約3.8億美元)的High NA EUV,該設備對ASML在1,250億美元的EUV市場保持領導地位至關重要。

ASML預期今年能出貨「數台」High NA EUV。英特爾(Intel)已下了訂單,第一台設備已於去年12月送達該公司奧勒岡廠,預定2025年啟用,開始製造晶片。

這台EUV可在8奈米厚半導體上列印電路,比前一代小1.7倍。電路愈細,晶片上可安裝的電晶體就愈多,處理速度和記憶體的表現就愈佳。ASML高階主管表示,該設備對人工智慧(AI)發展至關重要。

ASML執行長溫彼得(Peter Wennink)上月受訪時表示,AI需要「大量運算能力和數據儲存。如果沒有ASML,沒有ASML的技術,將無法實現。這會是我們業務的一大驅動力」。

ASML發言人莫爾斯(Monique Mols)周五在媒體參觀該公司總部時說,安裝這套重達15萬公斤的系統,要用到250個貨箱、250名工程師,且需時6個月。

ASML從2018年開始銷售的所謂low-NA微影設備,標價是1.7億歐元。

半導體 晶片 雙層巴士 電路

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