台積電台中1.4奈米廠「不採ASML最新設備」 網憂反增缺陷風險

台積電傳出將於今年底在台中動工興建1.4奈米生產線，預計2028年下半年實現量產，不過外媒報導指出，公司不打算採購艾司摩爾（ASML）最新高數值孔徑EUV曝光機，而是選擇沿用現有設備，透過多重曝光技術持續推進，這項決策隨即在PTT股板引發討論，不少網友聚焦「成本」、「風險」與「台積電領先優勢」三大面向。

根據媒體報導，台積電將在台中建廠，初期投資金額可能高達490億美元（約1.5兆元台幣），其中部分將用於2027年採購30台EUV曝光機。科技分析師Dan Nystedt透露，台積電不會購買單價4億美元的High-NA EUV新機，因現有設備已能支撐1.4奈米研發。外界分析，台積電將採用多重曝光方式，雖然製程更複雜、初期良率偏低，但仍有時間逐步優化，延續在先進製程的領先地位。

PTT網友發文指出，台積電若以「重複刷製程」取代採購昂貴新機，雖能降低成本，但可能耗費更多時間並增加缺陷風險。不過他認為台積電短期沒有追趕者，時間仍站在公司這邊，2028年量產時程符合預期，關鍵在於能否維持穩健推進且不再出現「內宄」問題。

網友留言中，多數人贊同台積電選擇省成本，直言「客戶不急，台積就用舊設備先賺」、「人比機器便宜」，甚至有人戲稱「連台積都不用，ASML下去吧！」、「GG幫ASML開法會」。也有網友指出，這與中芯用舊設備延伸製程的做法類似，但台積電擁有EUV成熟經驗，風險相對可控。

不同意見則認為台積電應積極導入新設備，避免良率風險，質疑「一台4億對台積來說負擔不大」、「良率才是核心競爭力」。另有網友延伸至全球競局，提到「英特爾已經有High-NA」、「蘋果不再願意當冤大頭提前投資」，憂心台積電未來增長動能恐放緩。

※免責聲明：本文僅為個人觀點與紀錄，而非建議。投資人申購前需自行評估風險，詳閱公開說明書，自負盈虧。