台積洩密案 3嫌都屬良率部門

台積電二奈米製程機密遭外洩，涉案遭收押的三名工程師提抗告昨遭最高法院駁回。知情人士表示，三人都畢業於清華、交通等頂大，陳姓工程師在台積電任職近八年，後來被日商延攬；他在台積電後期任職於五奈米、三奈米先進製程的缺陷改善部門，與提升晶片良率有關。

另二名台積電吳姓、戈姓工程師工程師資歷不到十年，兩人都在台積電良率精進部門，負責提升良率與優化製程，工作內容涵蓋二奈米製程開發的核心環節。

業界人士指出，遭翻拍的製造流程圖（process flow），雖然是局部資料，但來自台積電良率部門，負責為產品開發把關，相關資訊量完整，對內行人而言，對於提升產品良率，可以減少摸索的冤枉路。

業界人士指出，台積電每天產出的關鍵技術報告多達上百張，這次雖被偷拍近千張，但台積電的機密等級分A、B、C、AA四級，能從公司外連線的內容，恐怕機密層級較低；涉案工程師將機密拍照外傳，恐怕是輕忽公司內的機密資訊保護（PIP）規定。

清華大學材料系特聘教授周卓煇說，台積電在保密制度與反諜措施全台第一，甚至曾聘請英國反情報專業團隊協助建立防護機制，還祭出競業條款防止帶槍投靠。

周卓煇說，過去三星等競爭對手，曾設法挖角台積電退休或離職員工，甚至透過「白手套機構」包裝成學術單位邀請演講，藉此誘導對方透露機密資訊，「這些行為最後仍被查獲、依法判刑」。