ASML獨霸EUV、Nikon退出先進製程 「關鍵分水嶺」讓結果天差地遠

在半導體微影設備領域，日本Nikon曾是全球領導者，1980至1990年代初期市占率一度超過70%，遠超過當時還默默無名的荷蘭ASML。

然而，隨著產業技術飛躍與合作模式的轉變，ASML不但趕上，最終在EUV技術中一舉成為獨霸者，而Nikon則逐步退出先進製程市場。

關鍵分水嶺之一，就在於Nikon採取「垂直整合」模式，ASML 採取「開放創新平台」（OIP）模式，而這兩種策略，對於高度複雜、需跨領域協作的先進製程產業，結果天差地遠。請參見圖6-1所顯示的營收差異。

然而，在進入極紫外光（EUV）時代後，對於光學系統的精度要求已達到極限等級（例如反射鏡誤差需低於50皮米），而Nikon則難以突破此物理瓶頸。

由於Nikon並未對外尋求更強的合作夥伴，而是堅持自製光學元件，其產能、精度與研發節奏無法跟上技術潮流，導致其無法成功推出EUV系統，也無法取得台積電、Intel等關鍵客戶訂單。

相對地，ASML採取OIP策略，結合各領域最頂尖的技術資源，最後得以突破EUV系統的難關。如今，ASML是唯一能量產EUV曝光機的企業，市占率超過 90%。

（本文出自《王道經營會計學》作者：施振榮、劉順仁)